全自动单片刷洗设备
Xtrim-SC-BR300
设备概述
LD/ULD 、Brush Chamber、Clean Chamber、Robot
设备亮点
功能完备
支持双面刷洗和边缘刷洗。
Mega-Sonic，Nano-Spray，DIW、N2等基本配置可选。
自动化生产
支持自动混液和供液。
定制化设计
支持6”&8”&12”inch Wafer。
可根据客户需求进行定制化多腔搭配。
污染控制
专业材质选用：实现对Particle的高效管控。
Wafer在各Chamber之间采用密闭环境模块化搬运。