Post-CMP 清洗设备（立式）
Xtrim-SC-BC300
设备概述
Cassette*4（上料，Wet）；LoadPort*4（下料，Dry）；Mega SC1/Brush DIW/DHF; Marangoni Dryer; Index Robot*2; Process Robot*2;EFEM*1;IPA Gas Box;外置SC1&DHF CDS DIO3 generator 可选
设备亮点
功能完备
支持双面刷洗、Mega清洗、慢提拉干燥。
Brush快速更换。
精准高效的取片技术
浸泡槽内立式取片和mapping技术。
多工艺手爪无交叉污染立式取片技术。
定制化设计
支持6”&8”&12”inch Wafer。
可根据客户需求进行定制化搭配。
精准化控制
专业流场、温控设计。
精确配液：依工艺选择 流量计/计量泵/称量桶/浓度计。
精确补液：by 片数/时间/浓度。